英国Nikalyte超高真空磁控溅射系统

NEXUS 是一款超高真空 PVD 系统，集成了多种沉积技术，包括纳米颗粒和薄膜沉积。它具有使用 QMS 质量过滤器进行实时纳米颗粒过滤、可定制选项和先进的过程控制等特点，是工业和学术研究的理想选择

NEXUS是一种多功能超高真空 (UHV) 沉积系统，专为广泛的研究和工业应用而设计。它结合了多种沉积技术，包括使用终止气体冷凝技术的3 头纳米粒子源，而QMS 质量过滤器则能够按质量或直径实时扫描和过滤纳米粒子，优化生长条件以获得一致的高质量结果。该系统还包括微型电子束蒸发器、磁控溅射源、热舟源和用于控制薄膜沉积的 K 电池。凭借基板加热、旋转、偏置和高级配方控制软件等可定制功能，NEXUS 提供了非凡的灵活性。负载锁和附加组件等附加选项可增强过程控制并实现与分析工具的集成，使其成为催化、储能、光子学和生命科学应用的理想选择。

主要特点

• 通过结合纳米颗粒和薄膜生成复合材料

• 使用NL-UHV制备无碳氢化合物纳米颗粒  

• 具有负载锁、烘烤和泵送升级选项的 UHV 系统

• 涡轮/干式前级泵组合

• 最多可容纳 5 个光源的共焦端口几何结构

• 与第三方来源兼容

• 具有旋转、加热和偏置选项的基材涂层

• 联锁装置可保护人员和设备

• 全自动配方驱动软件

基本系统配置

可选项

• 5e – 9 Torr 基准压力（带烘烤选项）

• 样品阶段：-

– 纳米颗粒加速的直流偏置

– RF 偏置用于样品表面清洁

– 加热至800°C

• 泵送 – 700l/s 涡轮增压

• 带传输臂的单独抽真空负载锁

• 系统烘烤

• 阀门、百叶窗和线性驱动器的自动化选项

• 涡轮前部的可调节挡板可增加较低气体流量下溅射的动态压力范围

NEXUS 系统配置选项